ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์

หน่วยงาน สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์
นักวิจัย : รัตนพันธุ์ นพเก้า
คำค้น : พารามิเตอร์ , การเคลือบฟิล์ม , แผ่นเวเฟอร์
หน่วยงาน : สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : อัษฏา จิรประยุกต์เลิศ
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://dric.nrct.go.th/Search/SearchDetail/209849
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย : -
บรรณานุกรม :
รัตนพันธุ์ นพเก้า . (2551). การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์.
    กรุงเทพมหานคร : มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี.
รัตนพันธุ์ นพเก้า . 2551. "การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์".
    กรุงเทพมหานคร : มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี.
รัตนพันธุ์ นพเก้า . "การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์."
    กรุงเทพมหานคร : มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี, 2551. Print.
รัตนพันธุ์ นพเก้า . การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์. กรุงเทพมหานคร : มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี; 2551.