ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น
นักวิจัย : ถิรพัฒน์ วิลัยทอง , ดุษฎี สุวรรณขจร , สุรพล ดำรงกิตติกุล , นิยม บุญถนอม , บรรจบ ยศสมบัติ , Thiraphat Vilaithong , Surapoll Dumronggittigule , Banchob Yotsombat , Niyom Boontanom , Dusadee Suwannakachorn
คำค้น : Coatings , Ion implantation , Physical sciences , Plasma physics , Plasmas and electrical discharges , ศูนย์เทคโนโลยีโลหะและวัสดุแห่งชาติ , สาขาวิศวกรรมศาสตร์และอุตสาหกรรมวิจัย , อุตสาหกรรมการเคลือบผิว , เครื่องไอออนอิมพลานเตอร์ , ไอออนอิมพลานเตชั่น
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2534
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/4603
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

แหล่งกำเนิดไอออนชนิดดูโอพลาสมาตรอนได้ถูกใช้งานกันอย่างแพร่หลายในงานวิจัย ทางด้านวิทยาศาสตร์และอุตสาหกรรมเพื่อสร้างไอออนมวลหนักสำหรับงานด้านการ ปรับปรุงสมบัติเชิงผิวของวัสดุ แหล่งกำเนิดดังกล่าวมีลักษณะเด่น อาทิ ให้กำเนิดลำไอออนที่ค่ากระแสสูง ค่าการกระเจิงของลำไอออนต่ำ การกระจายของพลังงานมีค่าน้อย การทำงานน่าเชื่อถือเป็นที่ยอมรับได้และค่าใช้จ่ายในการบำรุงรักษาค่อนข้าง ต่ำ แหล่งกำเนิดไอออนดูโอพลาสมาตรอนของศูนย์วิจัยนิวตรอนพลังงานสูง มหาวิทยาลัยเชียงใหม่นี้ได้ประกอบเข้ากับเครื่องอิมพลานเตอร์พลังงาน 150 กิโลอิเล็กตรอนโวลต์ และสามารถทำงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ นอกจากนี้ยังได้มีการปรับปรุงระบบให้ผลิตไอออนที่กระแสเพิ่มขึ้นถึง 4 มิลลิแอมป์และ1-2 มิลลิแอมป์ ที่ค่าศักย์ไฟฟ้าดึง 20 กิโลอิเล็กตรอนโวลต์และ120 กิโลอิเล็กตรอนโวลต์ ตามลำดับ ขณะที่ค่ากำลังไฟฟ้าที่แหล่งกำเนิดไฟฟ้าแรงสูงลดต่ำลงด้วย Duoplasmatron ion source are currently used in scientific and industrial facilities worldwide to produce heavy ions for surface modifications of materials. The ion source has several advantages, for instance; high current and low divergence of ion beam, low energy spread, reliable operation and relatively low cost of maintenance. At Fast Neutron Research Facility Chiang Mai University, the duoplasmatron ion source was successfully installed at the 150 keV ion implanter. The source is working reliably for several hours of the operation. It is capable of producing ion current up to about 4 mA and 1-2 mA for an extraction voltage up to 20 keV and 120 keV respectively. With norminal load on all power supplied located on the high voltage top-terminal.

บรรณานุกรม :
ถิรพัฒน์ วิลัยทอง , ดุษฎี สุวรรณขจร , สุรพล ดำรงกิตติกุล , นิยม บุญถนอม , บรรจบ ยศสมบัติ , Thiraphat Vilaithong , Surapoll Dumronggittigule , Banchob Yotsombat , Niyom Boontanom , Dusadee Suwannakachorn . (2534). การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ถิรพัฒน์ วิลัยทอง , ดุษฎี สุวรรณขจร , สุรพล ดำรงกิตติกุล , นิยม บุญถนอม , บรรจบ ยศสมบัติ , Thiraphat Vilaithong , Surapoll Dumronggittigule , Banchob Yotsombat , Niyom Boontanom , Dusadee Suwannakachorn . 2534. "การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ถิรพัฒน์ วิลัยทอง , ดุษฎี สุวรรณขจร , สุรพล ดำรงกิตติกุล , นิยม บุญถนอม , บรรจบ ยศสมบัติ , Thiraphat Vilaithong , Surapoll Dumronggittigule , Banchob Yotsombat , Niyom Boontanom , Dusadee Suwannakachorn . "การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2534. Print.
ถิรพัฒน์ วิลัยทอง , ดุษฎี สุวรรณขจร , สุรพล ดำรงกิตติกุล , นิยม บุญถนอม , บรรจบ ยศสมบัติ , Thiraphat Vilaithong , Surapoll Dumronggittigule , Banchob Yotsombat , Niyom Boontanom , Dusadee Suwannakachorn . การเคลือบแข็งด้วยวิธีไอออนอิมพลานเตชั่น. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2534.